IC Compiler がダブルパターニングに対応

Synopsysの自動レイアウト設計ツール「IC Compiler」，20nm向けにダブル・パターニングに対応

二つのマスク・レイアウトへの振り分けも自動的に行う。

というのはともかく、

自動振り分けは，IC Compilerの配置ツール，および配線ツールの「Zroute」で実現したという。

というのは、どういう仕組みなんだろうか。

ニュースリリースでは、以下のような説明がある。

シノプシス、ダブルパターンニング対応の20nm設計ソリューションの道を開く

IC Compiler Advanced Geometryは、一般に（四色問題のような）色分け問題と言われる手法でダブルパターンニング化のための必要事項を系統立てて明確にする画期的な新技術を導入し、各種設計指標への悪影響を回避しつつ最終的に2つのパターンに正しく分解できるcorrect-by-constructionソリューションを提供する。

四色問題ですか。難しそうですね。