公開外部記憶 ※本ブログの掲載内容は私自身の見解であり、所属する組織を代表するものではありません。
STMicroelectronicsは,40nmプロセス・ルールの低消費電力半導体の製造を委託する。フォトマスク作成用データの受け渡し(テープ・アウト)と生産開始は2010年の予定。
0 件のコメント:
コメントを投稿